EI(electronics-inc)流量閥

產品概述

EI Electronics MC MagnaValve是新一代工業級智能流量控制閥，專為壓力、高潔凈度及超精密流體場景設計。其創新性融合了EI的MagnaCore™多級磁感驅動系統與嵌入式AI控制芯片，可在0.1-50 bar超寬壓力范圍內穩定調節氣體、液體及納米級懸浮介質的流量。該產品廣泛應用于半導體制造、氫能儲運、生物醫藥等高技術領域，以納米級精度、全生命周期自診斷及多協議物聯能力，重新定義工業流體控制標準。

核心技術特點

多級磁感驅動架構（MagnaCore™）?

采用五層軸向磁路陣列設計，驅動力密度較傳統電磁閥提升3倍，響應時間≤5ms。閥芯采用碳化硅陶瓷與納米鍍層工藝，耐受氫氟酸、超純水等介質，工作溫度范圍擴展至-196℃（深冷）至300℃（高溫），使用壽命突破5000萬次循環。

AI動態校準系統?

集成多模態傳感器（流量、壓力、溫度、振動），每秒執行2000次數據采集，通過內置TensorFlow Lite模型實時優化控制參數。支持MQTT/OPC UA協議，實現與工業4.0平臺的毫秒級數據同步，流量控制精度達±0.1% FS。

全封閉潔凈設計?

閥體采用電化學拋光316L超低碳不銹鋼，流道表面粗糙度Ra≤0.1μm，滿足SEMI F57超純水標準。可選配真空級密封（漏率＜1×10?? mbar·L/s）與ISO 1級潔凈室裝配工藝，適配芯片光刻膠、疫苗原液等超敏感介質輸送。

應用場景

半導體制造?：極紫外光刻（EUV）設備冷卻劑流量控制、晶圓清洗超純水分配。

氫能源系統?：70MPa高壓氫氣管網壓力調節、液氫儲罐加注流量管理。

生物制藥?：mRNA疫苗微流控生產、一次性生物反應器培養基精準供給。

科研裝置?：聚變堆超導磁體液氦循環、同步輻射光源液態金屬靶控制。

性能優勢

超高壓能力?：50 bar連續工作壓力，峰值耐受100 bar沖擊載荷。

納米級潔凈?：通過FDA 21 CFR Part 11電子記錄認證，顆粒釋放量＜5 particles/mL（≥0.5μm）。

自主運維?：數字孿生系統預測閥門健康狀態，自動生成維護工單并推送備件清單。

能效?：動態功耗＜2W（@24VDC），較同類產品節能60%。

技術參數

項目參數值

公稱通徑DN6/DN10/DN15/DN20

工作壓力0.1-50 bar（標準）/ 100 bar（定制）

介質兼容性氣體/液體/納米漿料（粘度≤10? cP）

控制信號4-20mA/EtherCAT/Profinet IRT

泄漏等級ANSI/FCI 70-2 Class VI（金屬密封）

認證標準SEMI S2/S8、ASME BPE、ISO 14644-1

安裝與維護

需采用無應力安裝工藝，配套EI HyperMount™對中夾具確保法蘭平行度≤0.02mm。維護時通過NFC近場通信獲取設備檔案，支持熱插拔更換核心模塊（MTTR＜15分鐘）。每5年執行一次全性能校準，EI全*服務中心提供原位標定服務。

認證與質保

通過ISO 9001:2015、CE（2014/34/EU ATEX）、SIL 3（IEC 61508）認證，質保期升級至5年（含AI核心模塊）。所有生產數據上鏈存證，用戶可通過EI Blockchain Portal追溯每個零部件的材料批次與測試記錄。

如需獲取潔凈室安裝指南或參與定制化開發項目，請登錄EI Industry 4.0 Hub或聯系專屬技術顧問。

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